DoNews10月11日消息，據(jù)報道，俄羅斯圣彼得堡理工大學的研究人員開發(fā)出了一種“國產(chǎn)光刻復合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將使“解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題”成為可能。
據(jù)俄新社報道，圣彼得堡理工大學代表透露，該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備。據(jù)介紹，其中一種工具的成本為 500 萬盧布（當前約 36.3 萬元人民幣），另一種工具的成本未知。
第一種設備可用于在基底上獲得圖像，而無需特殊掩模。據(jù)開發(fā)人員稱，與傳統(tǒng)光刻技術相比，無論是在成本還是時間方面，這項技術都劃算得多，因為傳統(tǒng)光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制，可實現(xiàn)完全自動化。
這位代表稱，該綜合體由圣彼得堡理工大學開發(fā)，旨在創(chuàng)建“各種微電子設備運行”所需的“納米結構”。該工藝的第一階段需要使用基礎掩模光刻機，第二階段則需要用到硅等離子化學蝕刻機。
據(jù)悉，第二種裝置需要用到第一階段在基底上創(chuàng)建的圖像。俄新社寫道，該設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。
該項目的作者向俄新社保證，在這種機器上制作的硅膜“在可靠性和靈敏度方面超過了用液體或激光蝕刻方法制作的硅膜”。他們還強調，這是完全的（俄羅斯）國產(chǎn)產(chǎn)品。
實際上，圣彼得堡理工大學并不是唯一一所致力于研究先進的國產(chǎn)光刻解決方案的機構。早在 2022 年 10 月，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所就宣布開始朝這個方向展開工作，但其目標略有不同。
公開資料顯示，截至 2023 年 10 月，俄羅斯最多可以使用 65nm 的拓撲結構，而該技術在近 20 年前就已經(jīng)幾乎被淘汰了，不過俄羅斯現(xiàn)在正在建設 28nm 芯片工廠。
據(jù)稱，諾夫哥羅德應用物理研究所正在努力縮小俄羅斯與世界其他國家之間的巨大差距，而他們的專家正在開發(fā)第一款國產(chǎn)光刻機，能夠生產(chǎn) 7nm 拓撲芯片。然而，這仍需要數(shù)年時間，至少要到 2028 年才能開始全面運行。
